ASML ทำเครื่อง lithography — เครื่องจักรที่ใช้ "พิมพ์" circuit patterns ลงบน silicon wafer — เปรียบเสมือนเครื่องพิมพ์ที่พิมพ์ลาย circuit ด้วยแสง แต่แทนที่จะพิมพ์ลงกระดาษ พิมพ์ลงบน silicon wafer ที่จะกลายเป็น chip
EUV Lithography (Extreme Ultraviolet) — ระดับ physics ขีดสุด: ใช้แสง wavelength 13.5nm (100x สั้นกว่าแสงที่มองเห็น) เพื่อ print circuit ที่ขนาด 3nm, 2nm ASML ต้องสร้าง vacuum chamber พิเศษ (เพราะ EUV light ถูก air absorb ทั้งหมด), ใช้ tin plasma เป็น light source, และ mirror ที่แม่นยำระดับ atomic ทุกเครื่องมีชิ้นส่วน ~100,000 ชิ้น จาก 5,000 suppliers ราคา €150-200M ต่อเครื่อง ASML ผลิตได้ ~50-60 เครื่องต่อปี
High-NA EUV (EXE:5200) — ยุคต่อไป: "High Numerical Aperture" EUV เพิ่ม resolution อีกขั้น — จาก 0.33 NA เป็น 0.55 NA ทำให้ print ได้ละเอียดขึ้น ~70% จะ enable 1.4nm และ 1nm nodes ในอนาคต ราคา ~€350M ต่อเครื่อง ลูกค้าแรก: Intel TSMC และ Samsung จะตามมาในปี 2026-2027
DUV Lithography — mature แต่ยังใหญ่: Deep Ultraviolet (193nm) ใช้สำหรับ nodes 5nm ขึ้นไป (mature) รวมถึง DRAM และ special processes ยังขายได้ดี €12B ปี 2025 แม้จะ down 6% YoY เพราะ China ลด order (export control)
Service & Parts — recurring revenue ที่โต: ทุก EUV machine ที่ install ต้องการ service, calibration, parts upgrade จาก ASML ตลอด 20-30 ปีอายุเครื่อง ยิ่งมี installed base มาก → service revenue โตตาม ตอนนี้ service revenue ประมาณ ~€8B/ปี และโตทุกปี